PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает максимальную гибкость процессов. Благодаря аппаратной части, позволяющей осуществлять Bosch-процесс и криогенное травление в одной камере, данная система обеспечивает возможность создания как микро-, так и наноструктур. Технология глубокого кремниевого травления от Oxford Instruments реализованная на PlasmaPro Estrelas100 обеспечивает лучшую в отрасли производительность процесса.

Технологические особенности системы:

• размер подложек от 50 до 200 мм
• нагрев вкладышей камеры до 150 С
• гибкая конфигурация системы, обеспечивающая возможность разрабатывать устройства, техпроцесс изготовления которых может быть внедрен в производство с использованием того же оборудования
• электростатический зажим образца
• улучшенная стабильность плазмы, устраняющая эффект "первой пластины"
• уменьшенный эффект накопления полимерных отложений, что увеличивает среднее количество обрабатываемых пластин между механическими чистками
• быстродействующие регуляторы расхода газа, изначально спроектированные для атомно-слоевого осаждения
• уменьшенный объем рабочей камеры, позволяющий увеличить скорость прокачки газа и уменьшить шаг технологических процессов