Характеристики и описание
- Производитель
- Страна производительВеликобритания
Система для плазмо-химического осаждения из газовой фазы. PECVD модули спроектированы для производства пленок с высокой равномерностью и скоростью осаждения. Система позволяет превосходно контролировать такие свойства пленок, как коэффициент преломления, внутренние напряжения, электрические характеристики и скорость осаждения.
Рабочие камеры доступны как обособленные модули со шлюзовой камерой, так и в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой.
Технологические особенности системы:
- заземленный нижний электрод с возможностью нагрева до 400ºC (типичные процессы - это осаждение SiO2, Si3N4, SiON, аморфный Si и SiC) опционально до 700ºC (для выращивания Si нанопроводов, высокотемпературного PECVD с широким выбором химии процесса);
- газовый душ с оптимизированной подачей газа и приложенным ВЧ потенциалом;
- превосходная равномерность;
- возможность проведения процесса при высоком давлении и режиме интенсивного потока газа;
- онлайн очистка камеры;
- совместимость с пластинами диаметром от 50 мм до 200 мм или держателями пластин оригинальной формы
- оптимизированный дизайн верхнего электрода работающего при высоких давлениях и ВЧ мощностях и позволяющего увеличить скорость осаждения диэлектриков и аморфного кремния
- подведенная ВЧ мощность к газовому душу с оптимизированной подачей газа, обеспечивающая равномерное горение плазмы
Платформа высокопроизводительного травления Oxford Instruments PlasmaPro100 PECVD
Под заказ
Цену уточняйте
Минск ∙
Доставка
Оплата и гарантии