Характеристики и описание
- Производитель
- Страна производительВеликобритания
Система для сухого травления в индуктивно-связанной плазме. Источник индуктивно-связанной плазмы обеспечивает высокую плотность заряженных частиц при низком давлении. Смещение потенциала на подложке независимо регулируется отдельным ВЧ генератором, позволяющим контролировать энергию ионов в зависимости от требований техпроцесса.
Рабочие камеры доступны как обособленные модули со шлюзовой камерой, так и в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой.
Технологические особенности системы:
- модуль Cobra системы PlasmaPro System100 Cobra ICP Etch доставляет реактивные частицы к подложке, путем создания равномерного высокопроводящего канала в объеме камеры, таким образом обеспечивая мощный поток заряженных частиц к подложке при поддержке общего низкого давления
- совместимость с пластинами диаметром от 50 мм до 200 мм или держателями пластин оригинальной формы
- система поставляется с источниками индуктивно-связанной плазмы диаметрами 65, 180 и 300 мм
- доступны нижние электроды с диапазоном температур от -150 ºC до +400 ºC с гелиевым поддувом под подложку и механическим держателем пластин
- регулируемая высота электрода может помещать подложку в разные области плазменного разряда, что позволяет обрабатывать пластины толщиной до10 мм на оптимальной высоте
- оптимизированное оборудование и управлениедля обеспечения процессов, требующих быстрого согласования,например Bosch-процесс
Платформа высокопроизводительного травления Oxford Instruments PlasmaPro100 Cobra ICP Etch
Под заказ
Цену уточняйте
Минск ∙
Доставка
Оплата и гарантии