Система предназначена для широкого круга процессов анизотропного сухого травления.

Реактор установки PlasmaPro100 RIE представляет собой параллельные пластины управляемые ВЧ (13,56 МГц) напряжением. Рабочие камеры доступны как обособленные модули со шлюзовой камерой, так и в кластерной конфигурации с гексагональной или квадратной трансферной камерой.

Технологические особенности системы:

• рабочий газ поступает через газовый душ для равномерного распределения по камере 
• размер пластин до 200 мм
• диапазон температур нижнего электрода от -150ºC до +400ºC
• высокая производительность насосов обеспечивает широкий диапазон рабочих давлений
• поддув гелия под пластину для улучшенного теплового контакта пластины и электрода
• отличная равномерность
• низкая себестоимость продукции