Семейство систем FlexAL компании Oxford Instruments Plasma Technology предоставляет новые возможности в разработке наноразмерных структур и приборов, реализуя процессы атомно-слоевого осаждения с удаленной плазмой и термическое ALD в составе одной системы. Процесс атомно-слоевого осаждения самолимитированный, т.е. после достижения моноатомной толщины пленки процесс останавливается.

Технологические особенности системы:

• максимальная гибкость в выборе материалов и подложек
• низкотемпературные процессы, обусловленные наличием удаленной плазмы
• быстродействующая система подачи газа (t<10мс)
• высокопроизводительная система откачки, для быстрой смены среды в камере
• повторяемость процессов ~1%
• равномерность по 200 мм пластине <2%
• отличное покрытие структур с высоким аспектным соотношением
• возможность объединяться в кластер с другими системами OIPT

Для осаждения каждой пленки необходимо использовать специальный прекурсор. Рассмотрим эту технологию на примере осаждения оксида алюминия на кремниевую подложку, который проходит в 4 этапа (см. рис.):

1)                              2)                               3)                                4)

На первом этапе вы, с помощью быстродействующей системы подачи газа, напускаете в рабочую камеру прекурсор - триметилалюминий (TMA), который реагирует с поверхностью, образуя оксид алюминия с двумя метильными группами. Далее – продувка инертным газом. Третьим этапом происходит напуск кислорода в камеру с поджигом плазменного разряда. Активированный кислород реагирует с алюминием, ОН-группа вытесняет метильные группы и после еще одной продувки мы имеем слой оксида алюминия и ОН-группой. Далее эти циклы повторяются и у нас получается Al2O3