OpAL представляет собой уникальную для современного рынка систему термического ALD с возможностью модернизации до плазменного процесса ALD и позволяет проводить оба вида осаждения в одной компактной установке. Существует возможность обработки малых образцов произвольной формы, а также пластин диаметром 200 мм.

Технологические особенности системы:

• открытая загрузка пластин
• возможность установки перчаточной камеры для предотвращения попадания влаги при загрузке пластин
• возможность размещения и использования до 4 прекурсоров
• наличие съемных вкладышей для быстрой чистки вакуумной камеры
• порт для эллипсометра
• безопасный пневматический привод открытия вакуумной камеры

Химические соединения, доступные для термического осаждения:

• Оксиды: HfO2, Al2O3, TiO2, SiO2, ZnO, Ta2O5
• Нитриды: TiN, Si3N4
• Металлы: Ru, Pt