Системы предназначены для процессов выращивания наноструктур (нанотрубки и нанопровода), с контролируемыми параметрами роста. Nanofab также позволяет проводить процесс PECVD при стандартной и высокой температурах.

Технологические особенности системы:

• настраиваемый процесс выращивания нанопроводов и нанотрубок с температурой процесса до 1200 °С;
• дополнительная система жидкостного нанесения меток роста;
• охлаждаемые стенки и газовый душ обеспечивают равномерную доставку прекурсора;
• проведение процесса PECVD (осаждение оксидов, нитридов, оксинитридов);
• наличие загрузочного шлюза;
• распределение поля температур по пластине около 1оС
• размер подложек от малых образцов произвольной формы до пластин диаметром 200 мм;
• возможность установки эллипсометра и/или эмиссионного спектрометра
• опционально - смещение на подложке
• возможность объединяться в кластер с другими системами OIPT