Система магнетронного напыления PlasmaPro400 позволяет проводить процессы осаждения пленок металлов, оксидов, нитридов и силицидов толщиной от 20 нм до нескольких микрон. Держатель пластин с возможностью охлаждения водой или нагрева до 300 °С позволяет гибко настраивать процесс и выбирать материалы. С помощью высокочастотного смещения проводятся процессы стимулированные плазмой, что увеличивает адгезию пленок, и допускает возможность контроля структуры и стехиометрии наносимого материала. Доступ к сменным держателям пластин осуществляется через откидную крышку, что позволяет проводить регулярную чистку держателей с минимальными затратами времени. В стандартную поставку входят два комплекта сменных держателей пластин, облегчая пользователю регулярную чистку.

OIPT предлагает разные варианты и конфигурации магнетронных систем как для R&D целей, так и для массового производства. По типам магнетронов их можно разделить на следующие группы:

• магнетроны постоянного тока (DC) для осаждения металлов 
• магнетроны с импульсным питанием 
• ВЧ магнетроны для осаждения диэлектриков

Технологические особенности системы:

• толщина покрытий от нескольких нанометров до десятков микрон
• реализация смещения на подложке для её же очистки либо напыления с ионным ассистированием
• до 4 газовых линий для реактивного напыления
• нагрев подложек до 900 оС
• возможность объединяться в кластер с другими системами OIPT
• экраны для минимизации загрязнений рабочей камеры